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磁控濺射鍍膜儀

離子源雙靶磁控濺射鍍膜... 離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發的配有兩個靶位的實驗室專用鍍膜儀，設備配有兩臺直流電源，兩臺射頻電源，可用于制備單層...
桌面型磁控濺射鍍膜儀上... 磁控濺射鍍膜儀是一種先進的物**相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，...
雙靶磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛...
粉末磁控濺射鍍膜儀粉末磁控濺射鍍膜儀是一種用于在基材表面沉積薄膜的設備，利用磁控濺射技術將粉末狀的靶材轉化為薄膜覆蓋在基材上
桌面型磁控濺射鍍膜儀下... 磁控濺射鍍膜儀是一種先進的物**相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，...
桌面型磁控濺射鍍膜儀上... 磁控濺射鍍膜儀是一種先進的物**相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，...
高真空三靶磁控濺射鍍膜... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛...
分體式高真空三靶磁控濺... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛...
分體式高真空雙靶磁控濺... 雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛...
桌面型單靶直流磁控濺射... 單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
桌面型雙靶磁控濺射鍍膜... 本設備為雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備...
高真空4英寸三靶磁控濺... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等
下置四靶磁控濺射鍍膜儀四靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜
臥式高真空三靶磁控濺射... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等
小型臺式單靶磁控濺射鍍... 桌面型石英腔體單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SE...
桌面型不銹鋼腔體單靶磁... 單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
粉體磁控濺射包覆機粉體磁控濺射包覆機是通過粉未在濺射腔室內的旋轉，以達到粉未表面均勻包覆的效果。腔室可旋轉、傾斜，能快速出料。
真空腔體該真空腔體非常適合物理沉積 (PVD)、化學沉積 (CVD)、等離子體化學沉積 (PECVD)、熱噴涂、電子束濺射等多種...
三靶磁控濺射鍍膜儀　　三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物...
單靶直流磁控濺射鍍膜儀該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、...

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